光刻技术曾被视为半导体制造命脉，但如今或走下“神坛”。英特尔一位高管称“光刻将不再那么重要”，引发业界巨大争议。此前多家芯片巨头购入High - NA EUV光刻机，如英特尔、台积电、三星等，但实际应用里，它们却对此打了退堂鼓。
High - NA EUV光刻机面临滞销局面。去年其热度高，ASML组装了相关系统并交付给英特尔等公司。英特尔虽表示首批两台尖端光刻机已“投入生产”，但也显示未来光刻技术可能不再是唯一选择，即便难抢到的High - NA EUV，也多处于“闲置”状态。
与此同时，中国在光刻相关技术上有突破。2025年4月，中科院上海光机所团队研发出基于固体激光器的LPP - EUV光源，超越欧美同类型研究水平，为国产EUV光刻机研发奠定基础。此外，国产光刻胶也在突破技术封锁，部分企业实现量产或通过验证。返回搜狐，查看更多
